温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种用于１０↑［－８］Ｐａ超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置。它的水冷腔（３）内置有软铁（５）和磁钢（４）、下端面与水冷腔密封法兰（１７）上端面间置有Ｏ形金属密封圈（７），并经螺丝（２２）相固定，进出水管（２０，１９）分别于软...该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。
温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种用于１０↑［－８］Ｐａ超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置。它的水冷腔（３）内置有软铁（５）和磁钢（４）、下端面与水冷腔密封法兰（１７）上端面间置有Ｏ形金属密封圈（７），并经螺丝（２２）相固定，进出水管（２０，１９）分别于软...