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一种基于斜入射校正的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法，针对光源斜入射的情况，对基于边界点脉冲的吸收层模型进行参数校正，得到了准确的吸收层衍射谱，将无缺陷多层膜近似为单平面，其反射系数幅值和相位通过对严格仿真结果进行插值得到。本方法依次仿真吸...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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