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本实用新型涉及量子点膜技术领域，特别涉及一种边缘抗水氧的量子点膜，从下至上包括第一透明聚合物膜、间隔层、量子点层、水氧阻隔膜和棱镜结构的聚合物层；所述间隔层包括表面具有若干第一凹坑的第一聚合物层和第二透明聚合物膜；所述量子点层包括表面具有若...
该专利属于厦门玻尔科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门玻尔科技有限公司授权不得商用。

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