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本实用新型提供一种用于干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的前驱体，所述前驱体包括由硅基底依次叠加的二氧化硅层、非晶硅或氮化硅层以及光刻胶层。通过所述前驱体制备得到的二氧化硅光学微盘腔尺寸大，且具有超高的品质因子。...
该专利属于南京大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京大学授权不得商用。

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