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本发明公开了一种基于反应离子刻蚀的薄膜微光学结构的制备方法，将飞秒激光加工技术、反应离子刻蚀与化学机械抛光技术相结合，使得片上大尺寸高品质微光学器件的制备和大规模集成为可能。制备方法主要包括在薄膜表面镀金属层、飞秒激光选择性烧蚀金属膜或光刻...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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