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本发明公开了一种氮化镓化学机械抛光液，由SiO2抛光液、H2O2、甘氨酸、对苯二甲酸、去离子水和pH调节剂配制而成；所述化学机械抛光液中，SiO2的浓度为5～10wt％，H2O2的浓度为0.4～0.8wt％，甘氨酸的浓度为0.5～1.5wt...
该专利属于苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学授权不得商用。

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