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本发明公开一种钴铁合金在磁电容中的应用，所述应用是指以钴铁合金为靶材通过磁控溅射镀膜形成多层纳米级磁性膜，作为磁电容两电极之间的磁导电层；所述钴铁合金中，钴和铁的原子比例为6.5～7.2:3.5～2.8。本发明还公开了一种磁电容单元以及磁电...
该专利属于朱广琼;燕俊羽;高湛勋所有，仅供学习研究参考，未经过朱广琼;燕俊羽;高湛勋授权不得商用。

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