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本实用新型涉及一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，包括框架，所述的框架的下表面均匀的开设有连通的水槽，且框架的下表面通过锁紧孔配合锁紧螺栓的结构安装有水冷盖板，所述的框架上还设置有与水冷盖板配合的密封胶条，所述的密封胶条位于最外层水槽的外侧...
该专利属于东莞市多普光电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞市多普光电设备有限公司授权不得商用。

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