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本实用新型公开了一种卷对卷真空镀膜设备，它涉及真空镀膜设备技术领域，包括依次相连的放卷室、前张力控制室、进口狭缝室、进口过渡室、前离子清洗室、工艺室、后离子清洗室、出口过渡室、出口狭缝室、后张力控制室和收卷室，所述的放卷室内设置有放卷辊、第...
该专利属于上海子创镀膜技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海子创镀膜技术有限公司授权不得商用。

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