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本发明涉及一种含铈高强度无取向硅钢薄带及其制备方法。其技术方案是：所述含铈高强度无取向硅钢薄带的化学成分是：Si为3.0～3.5wt％，Al为0.5～1.0wt％，Mn为0.1～1.0wt％，Ce为0.01～0.03wt％，其余为Fe和不可...
该专利属于武汉科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉科技大学授权不得商用。

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