下载具有V型槽绒面的硅片及其应用的技术资料

文档序号:21852889

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本发明提供一种具有V型槽绒面的硅片,所述硅片具有迎光面和背光面,其中,所述迎光面和所述背光面均具有平行排布的V型槽状凹坑;所述迎光面V型槽的延伸方向与所述背光面的V型槽的延伸方向相互垂直;所述迎光面的V型槽的侧壁与所述硅片宏观表面的平面的夹...
该专利属于中国科学院物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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