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本发明公开的提供一种用于恢复多晶硅印刷工序异常片品质的工艺，包括以下步骤：待清洗的异常片经HCl、H2O2混合液清洗；预烧结，温度为80‑200℃；烧结，温度为485‑695℃，与现有技术相比，本发明将异常片做单独处理，调整清洗工艺，将电池...
该专利属于浙江贝盛光伏股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江贝盛光伏股份有限公司授权不得商用。

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