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本实用新型提供一种离子溅射仪，包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体内的自动旋转样品架，自动旋转样品架用于在离子溅射仪本体对样品进行溅射镀膜时支撑并旋转样品。本实用新型提供的离子溅射仪，通过在离子溅射仪本体上设置自动旋转样品架，实现离子溅...
该专利属于欣旺达电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过欣旺达电子股份有限公司授权不得商用。

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