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本发明提供了一种等离子腔室及其基片承载装置，基片承载装置包括：加热平台以及贯穿于所述加热平台的若干升降顶针；所述加热平台用于对待加工的基片提供热量；所述若干升降顶针用于将所述基片顶起脱离所述加热平台或落下将所述基片落于所述加热平台；其中，所...
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