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本公开涉及一种顺序渗透合成设备，其包括：反应室，所述反应室被构造和布置成容纳至少一个衬底；第一前体流动路径，当激活第一流动控制器时向所述反应室提供所述第一前体；第二前体流动路径，当激活第二流动控制器时向所述反应室提供第二前体；去除流动路径，...
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