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剥离层的制造方法技术
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文档序号:21693188
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本发明提供剥离层的制造方法,其中,将包含聚酰胺酸及有机溶剂的剥离层形成用组合物涂布于基体、在最高温度400℃以上进行烧成,所述聚酰胺酸包含由式(1)表示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分与包含选自在至少一个氨基的邻位具有至少一个羟基的芳香族二胺、...
该专利属于日产化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日产化学株式会社授权不得商用。
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