温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种脉冲激光沉积技术制备高硬度难熔高熵合金薄膜的方法，包括步骤：将难熔高熵合金靶材通过进样室传进沉积室；将Si基体清洗并不留下去离子水渍；将夹持Si片基体的试样盘传至沉积室内，抽进样室和沉积室真空至10Pa以下；分子泵抽沉积室真...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。