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本发明涉及精密抛光技术领域，特别是涉及一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种硅溶胶基磁流变金属抛光液，包括如下组分：硅溶胶、金属表面保护剂、分散剂、pH缓冲剂、磁性粒子保护剂、所述抛光液的pH值为9‑13。本发明针对...该专利属于上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。