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本发明公开了一种大面积超薄高晶态二维共轭高分子薄膜及其制备方法和应用。所述制备方法是利用化学气相沉积法，使固体源在基底表面进行界面共聚反应，制备得到二维共轭高分子薄膜。所述方法是一种普适性好、操作简便、低成本、低温常压、具备大批量生产能力的...
该专利属于中国科学院化学研究所;中国科学院大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院化学研究所;中国科学院大学授权不得商用。

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