下载能提高加工良率的IGBT器件的技术资料

文档序号:21516889

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本实用新型涉及一种能提高加工良率的IGBT器件,其包括半导体基板以及元胞区,半导体基板包括第一导电类型漂移区以第二导电类型基区;元胞区包括若干呈并联分布的元胞;发射极多晶硅包括发射极第一多晶硅体以及发射极第二多晶硅体,发射极第一多晶硅体填充...
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