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本发明涉及一种将许多微滴施加在底物上的设备，它包括许多在一配料头中的喷口（１４）。除了用于在每个喷口（１４）上确定一个要配料的介质液柱的装置外，按这样的方式设一个可充填缓冲介质的压力腔（３０），即，通过此缓冲介质可同时在液柱离喷口（１４）有...该专利属于哈恩-席卡德应用研究学会;罗兰.岑格勒所有，仅供学习研究参考，未经过哈恩-席卡德应用研究学会;罗兰.岑格勒授权不得商用。
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本发明涉及一种将许多微滴施加在底物上的设备，它包括许多在一配料头中的喷口（１４）。除了用于在每个喷口（１４）上确定一个要配料的介质液柱的装置外，按这样的方式设一个可充填缓冲介质的压力腔（３０），即，通过此缓冲介质可同时在液柱离喷口（１４）有...