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质谱系统中的原位调节技术方案
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文档序号:21482006
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在质谱仪或气相色谱/质谱仪系统中,添加一种或多种不同的调节气体以调节或改变离子源的一个或多个表面或区域。该一种或多种调节气体可被直接添加到该离子源中。当该质谱仪不分析样品时,可以离线添加该调节气体。...
该专利属于安捷伦科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安捷伦科技有限公司授权不得商用。
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