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p型SiC外延晶片及其制造方法技术
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文档序号:21459630
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提供一种p型SiC外延晶片的制造方法,具有设定原料气体中的C元素与Si元素的比率即投入原料C/Si比的工序;以及在上述原料气体、分子内包含Cl的Cl系气体以及分子内包含Al和C的掺杂剂气体存在的成膜气氛下在基板上形成p型SiC外延膜而得到A...
该专利属于昭和电工株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过昭和电工株式会社授权不得商用。
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