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本案公开一种真空镀膜装置，包括第一腔体和第二腔体，第二腔体可移动地设置在第一腔体中并配合形成密闭空间。第一腔体中设置有镀膜系统，第二腔体上设置有卷绕系统，镀膜系统包括离子源和靶体并设置在第一腔体的内壁上，导向辊用于将第一收放卷上的待镀材料引...
该专利属于无锡光润真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡光润真空科技有限公司授权不得商用。

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