下载一种沉积装置的技术资料

文档序号:21367382

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本发明公开了一种低熔点以及活泼金属的膜层沉积装置,包括:真空系统、阴极弧头、强脉冲磁场、永磁体阳极筒、磁过滤管及聚焦线包。通过实施本发明,到达镀膜工件表面的离子方向性好,同时在改进的冷却阴极弧头基础之上能够沉积低熔点的金属,如Zn,Mg,L...
该专利属于北京师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京师范大学授权不得商用。

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