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本发明公开了一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，包括真空外腔、真空内腔、颗粒搅拌机构及等离子体发生器，所述真空内腔设在真空外腔内，所述颗粒搅拌机构设在真空内腔内；所述真空外腔右侧设有真空抽气口及进气口，所述真空内腔包括反应仓及过滤网板，...
该专利属于深圳市奥普斯等离子体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市奥普斯等离子体科技有限公司授权不得商用。

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