温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

该实用新型涉及一种晶圆清洗设备，包括：紫外光源，安装至清洗腔，朝向待清洗晶圆设置，用于朝向待清洗晶圆出射紫外光，以活化待清洗晶圆表面；所述清洗腔用于放置待清洗晶圆，所述紫外光源出射的紫外光包括C波段和V波段中的至少一个波段。本实用新型中的晶...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。