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本申请提供了涂层部件及其形成方法。涂层部件可包括具有围绕陶瓷核心的Si‑处理层的陶瓷基质和在陶瓷基质的Si‑处理层上的环境屏障涂层。陶瓷核心可包括碳化硅，并且Si‑处理层可经预处理以使其表面性质适合于在Si‑处理层暴露于氧时，抑制或延缓碳氧...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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