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本发明公开了一种基于厌氧反应的MBR膜系统原位清洗方法，该方法将MBR在膜池中静置，通过控制厌氧反应参数将膜丝上污染物分解破坏，然后通过超曝抖动使污染物脱落，实现MBR系统原位清洗，涉及清洗MBR膜系统的原位清洗技术领域。而且无需或可以减少...
该专利属于杭州天创环境科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州天创环境科技股份有限公司授权不得商用。

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