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本发明涉及一种红外光学薄膜厚度控制方法，在射频机的真空室气体入口处连通气体通道，并在气体通道上设置气体流量计，所述气体流量计可以测得通入气体体积总量，通过控制通入气体总量控制红外光学薄膜厚度，在真空室的基片放置处设置一个装有石英振片的探头，...
该专利属于成都中源红科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都中源红科技有限公司授权不得商用。

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