专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
QMAT股份有限公司
>
使用气相或液相外延用于GaN增厚的种子晶片制造技术
>技术资料下载
下载使用气相或液相外延用于GaN增厚的种子晶片的技术资料
文档序号:21174004
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
实施方式涉及制造包括用作形成附加GaN材料的模板的薄的高质量单晶GaN层的晶片。对GaN材料的块状锭进行植入以形成次表面裂开区域。将植入的块状材料粘合到具有晶格和/或与GaN相容的热膨胀系数(CTE)特性的基底。这种基底材料的实例可包括但不...
该专利属于QMAT股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过QMAT股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。