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本发明是一种抛光和氧化铜表面的方法，该方法采用弱酸电解液，采用循环伏安法，通过扫描电压、扫描速度和循环次数的相互匹配调控铜表面粗糙度，通过停止电位调控铜表面氧化膜的厚度，实现抛光和氧化铜表面的过程结合，提升材料制备效率。本发明方法操作简单、...
该专利属于中国航发北京航空材料研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国航发北京航空材料研究院授权不得商用。

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