温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供半导体单晶炉大尺寸温场，包括一炉腔室，炉腔室内设有一坩埚，坩埚的外壁设有一侧加热器，坩埚的下方还设有下加热器，炉腔室还包括侧隔热层，侧隔热层分别为外部侧隔热层、内部侧隔热层、上部侧隔热层和下部侧隔热层，下部侧隔热层与外部侧隔热...
该专利属于上海汉虹精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海汉虹精密机械有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。