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本发明公开了一种制备超薄无针孔介电薄膜的方法，步骤(1)、通过物理气相沉积法沉积得到0.5～1nm超薄薄膜；步骤(2)、通过具有氧化特性的气体等离子体对所述步骤(1)得到的0.5～1nm超薄金属薄膜或超薄非金属薄膜进行氧化还原反应；步骤(3...
该专利属于南京大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京大学授权不得商用。

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