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绝缘栅型碳化硅半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
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文档序号:21118923
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提供一种绝缘栅型碳化硅半导体装置及其制造方法。具备:在主面是设置了大于0°的偏离角的{0001}面4H型的碳化硅基板1上的第1导电类型的漂移层(2a)、在漂移层(2a)的表层侧的第2导电类型的第1基区(3)、第1导电类型的源极区域(4)、沟...
该专利属于三菱电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱电机株式会社授权不得商用。
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