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本发明公开了一种大面积、均匀的纳米二聚体阵列的制备方法，于衬底上依次旋涂剥离光刻胶层和负性光刻胶层，采用可调紫外全息光刻技术对负性光刻胶层进行图案化曝光、显影和定影后得到六角排布的花瓣形纳米通孔阵列，刻蚀去除通孔下方的剥离光刻胶层，然后以所...
该专利属于厦门大学所有，仅供学习研究参考，未经过厦门大学授权不得商用。

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