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二次压入实现凹坑形微阵列结构单元表面平坦化的方法技术
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文档序号:21090167
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本发明涉及一种二次压入实现凹坑形微阵列结构单元表面平坦化的方法,属于机械领域。针对凹坑形微阵列结构单元的机械加工过程进行模拟,即使用维氏压头压入材料表面形成特征尺寸为微米级的凹坑单元,由于材料表面受力的作用会在凹坑周边形成凸起现象并伴随残余...
该专利属于吉林大学所有,仅供学习研究参考,未经过吉林大学授权不得商用。
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