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一种高场强高靶材利用率的阴极制造技术
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下载一种高场强高靶材利用率的阴极的技术资料
文档序号:21081853
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本发明涉及磁控溅射阴极,公开了一种高场强高靶材利用率的阴极,其核心是由磁钢组和磁轭组成的磁路模块,磁钢组通过磁力与磁轭连接,磁路模块包括一个磁轭,磁钢组由五道不等距且平行放置的磁钢组成,磁钢的磁极交错设置。本发明提供的磁路结构使得阴极表面拥...
该专利属于杭州朗为科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州朗为科技有限公司授权不得商用。
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