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本发明涉及材料加工中吸附平台领域，更具体地，涉及一种吸附力均匀的真空吸附平台，包括底座、蜂窝支撑层及面板，底座上设有抽气孔，蜂窝支撑层设于底座上，面板上设有多个吸气孔；还包括设于蜂窝支撑层与面板之间的均压腔室，均压腔室上设有与抽气孔连通的通...
该专利属于中山大学所有，仅供学习研究参考，未经过中山大学授权不得商用。

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