下载一种物理气相沉淀柔性PI镀膜设备的技术资料

文档序号:20958204

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本实用新型公开了一种物理气相沉淀柔性PI镀膜设备,包括支撑台和玻璃罩,所述玻璃罩位于支撑台上方,所述支撑台表面中间位置设有工作台,所述工作台外部固定连接防护罩,所述玻璃罩和支撑台连接处粘接有密封圈,所述玻璃罩外部对称设有减震装置且为固定连接...
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