温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及显示技术领域，公开了一种量子点发光器件的制备方法及量子点发光器件，该量子点发光器件的制备方法包括：在衬底基板上形成第一电极层；在第一电极层上形成空穴注入层；在空穴注入层上形成空穴传输层；在空穴传输层上形成量子点发光层；在量子点发光...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司授权不得商用。