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本实用新型提供一种等离子电解抛光研磨装置，包括遮盖金属一、滑槽、弹簧、固定块、遮盖金属二、夹板、橡胶保护垫以及螺栓，遮盖金属一内部开设有滑槽，滑槽内端固定有弹簧，遮盖金属二装配在遮盖金属一内部，且延伸至遮盖金属一上端，遮盖金属二内部装配有固...
该专利属于李容焕所有，仅供学习研究参考，未经过李容焕授权不得商用。

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