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本发明公开了一种光学镜片真空镀膜装置，属于镀膜技术领域，解决了现有装置的覆膜发射源发射出来的覆膜与镜片接触不均匀，使得镜片两面覆膜效果存在差异的问题；其技术特征是：包括壳体、真空镀膜腔、驱动腔和覆膜发射源，壳体的侧壁中设置有夹层，夹层的内部...
该专利属于丹阳广丰光学器材有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过丹阳广丰光学器材有限公司授权不得商用。

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