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本发明揭示一种在衬底上形成高分辨率材料图案的直接沉积系统。来自蒸镀源的汽化原子通过蔽荫掩模的通孔图案以按所要图案沉积于所述衬底上。将所述蔽荫掩模固持于掩模卡盘中，所述掩模卡盘使所述蔽荫掩模及所述衬底能够间隔可小于10微米的距离。在到达所述蔽...
该专利属于埃马金公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃马金公司授权不得商用。

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