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本发明提供一种柔性TFT基板的制作方法及柔性OLED面板的制作方法。本发明的柔性TFT基板的制作方法，采用物理气相沉积法(PVD)通过溅射相应元素来沉积形成源漏极金属层，在PVD沉积源漏极金属层的过程中，溅射腔室的室内温度为90‑100℃，...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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