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本实用新型公开了一种水冷式等离子清洗机,包括:清洗机本体,设于所述清洗机本体上的高真空系统、等离子发生系统、水冷系统、电控系统、等离子均匀性装置,所述高真空系统、等离子发生系统、水冷系统、等离子均匀性装置分别与所述电控系统电连接,所述电控系...该专利属于深圳市神州天柱科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市神州天柱科技有限公司授权不得商用。
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