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本实用新型提供一种显影喷嘴清洗槽及显影液喷涂系统，包括：清洗槽主体；凹槽，位于清洗槽主体内；密封圈，位于清洗槽主体的顶部，并位于凹槽外围；显影喷嘴置于显影喷嘴清洗槽上时，显影液容纳主体的底部压紧密封圈，以将显影液容纳主体与清洗槽主体之间的凹...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

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