下载半导体器件及其制造方法的技术资料

文档序号:20848238

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本发明公开了一种半导体器件,其特征在于,包括:电极层;半导体层,与电极层层叠设置,半导体层包括相接触设置的N型区和P型区,N型区和P型区的接触面形成PN结;其中,P型区包括含有氟化铝分解的受主杂质。本发明提供的半导体器件及其制造方法能够缩短...
该专利属于瑞能半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过瑞能半导体有限公司授权不得商用。

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