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被专门配置为在目标工件(156)上印刷一维线的极紫外(EUV)光刻刻划引擎包括：EUV辐射源(114)；图案源(144)，其限定1D图案；照射单元(IU)，其被配置为辐照图案源(144)；以及投影光学(PO)，其被配置为以缩小因子N>1将1...该专利属于株式会社尼康;朵妮丝·G·费杰洛;大卫·M·威尔森;史蒂芬·P·雷威克;丹尼尔·杰尼·史密斯;麦可·B·宾纳德所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康;朵妮丝·G·费杰洛;大卫·M·威尔森;史蒂芬·P·雷威克;丹尼尔·杰尼·史密斯;麦可·B·宾纳德授权不得商用。