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一种半导体结构及其形成方法，其中形成方法包括：提供衬底；对所述衬底进行第一表面处理，使所述衬底表面具有第二粗糙度，且所述第二粗糙度在预设范围内；在进行所述第一表面处理之后，在所述衬底表面形成光刻胶层。所述方法形成的半导体结构的性能较好。...
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